台积电公布5nm生产技术平台细节

2020-02-07 14:14:13

早在2019年4月,台积电宣布将在风险生产中引入其5nm技术,在IEDM 2019上,台积电对经过1000小时HTOL并将于2020年1H投入量产的5nm工艺进行了详细描述。这种5nm技术是一种从7nm节点扩展到全节点的技术,使用主要设计规则(栅极、鳍和Mx/Vx节距)的智能扩展来提高成品率,具有0.021um2 SRAM单元和领先于计划的下降缺陷密度D0。

5nm技术平台成功的主要原因是实现了极紫外(EUV)光刻技术。成熟的EUV在切割、接触、通孔和金属线掩蔽步骤上至少替换了至少四倍的浸没层,从而缩短了周期时间,提高了可靠性和良率。

【来源:EETOP】